搶攻良率

濕製程檢測全產線解決方案

新興濕製程技術如何協助解決產線急痛點?






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主講者

【特別嘉賓】美國前500大企業

Rockwell 智慧製造創新應用總監 王展帆

  • TCE Application Development Manager, Rockwell Automation
  • Senior Technical Consultant, Rockwell Automation
  • Regional Manager, Beijer Electronics
  • Product Manager, Advantech

邑流微測產品經理 李正宇

  • 小蘋果計劃分項科專主持人
  • 量測中心產學研協同主持人
  • 專利地圖競賽冠軍
  • 創新智慧應用大賽-創新前瞻獎
  • 潘文淵年輕研究創新獎
  • 新竹年輕經理人獎
當半導體線寬愈作愈小,如何透過更精密的監控以提升良率是目前百家必爭之地。而先進製程走向2奈米、3奈米,濕製程檢測也成為現在超夯的趨勢之一。
本回我們將透過研討會分享邑流微測如何透過新興技術協助國內外半導體大廠解決線上痛點,絕對不能錯過!

【產業應用】

  • 進出料檢測
    有效監控 In-line 進料過程是否發生微汙染,確保原物料從源頭-產線端皆維持最高規格的潔淨品質。
  • 產線檢測
    協助產線使用者即時監控成分及尺寸異常、分散及團聚性。
  • 廢料檢測
    AI 智慧分析軟體,自動化產出廢料/廢水中的粒子成分、尺寸等重要參數。

【優勢效益】

  • 缺陷預判:潔淨程度達警示標準,可提前更換濾心,預防產品出現狀況。
  • 最佳化建議:智慧化交叉比對濾心尺寸、壽命、保養週期,評估製程潔淨度。並提供最佳化建議。
  • 建立穩定製程標準:產線機台之清潔維持穩定的製程標準,確保此一製程不會成為客戶highlight的一環

活動資訊


  • 活動時間:2022-06-23(四) 14:00-15:00
  • 活動方式:線上研討會
  • 主辦單位:邑流微測
  • 協辦單位:矽菱企業
  • 活動窗口:[email protected];03-6589006#122 蔡小姐

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活動流程

14:00
開場
14:05
Rockwell 智慧製造創新應用總監 王展帆
透過檢測及資料整合最佳化廠務控制
14:20

Q&A

14:25
邑流微測產品經理 李正宇

新興濕製程技術如何協助解決產線急痛點?

14:50Q&A
15:00活動結束

#謝絕同業,主辦單位保有審核報名之權利

#直播連結將於6月21日寄發,請務必填寫正確電子信箱

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